Schaeffler Schweiz

 
 
 
 
 
 
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RollenumlaufeinheitenKUVE (Kugelumlaufeinheiten)
 
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Anwendungen

Lithographie

Hochpräzise Linearführungen für Koordinatentische

Um Strukturen auf die Chips aufzubringen, werden diese mit einem extrem lichtempfindlichen Fotolack beschichtet. Der Fotolack wird durch eine Maske hindurch belichtet und dort zersetzt, wo Licht auftritt.

In der Halbleiterfertigung der nächsten Generation werden Strukturgrößen unterhalb von 60 nm angestrebt, um höhere Speicherdichten und Schaltgeschwindigkeiten zu erreichen.

Linearmotorgetriebene Koordinatentische sorgen für die Bewegung von Substrat und Projektionsmaske. Die Basis der Maschine bilden ein stabiler, schwingungsgedämpfter Granitaufbau und eine hochpräzise Führung, z. B. die INA Rollenumlaufeinheit RUE Diese äußerst geräuscharme Führung zeichnet sich durch einen gleichmäßigen Lauf- und Verschiebewiderstand aus – für hohe Reproduzierbarkeit und Genauigkeit beim Positionieren.